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单晶PERC黑斑黑点排查及分析

   2021-04-13 光伏技术交流32790
核心提示:黑斑黑点问题一直是电池片良率提升的前两项问题,黑斑的种类多,从异常的产生来讲可以分为两类,一类为偶然工艺原因,此类主要有
黑斑黑点问题一直是电池片良率提升的前两项问题,黑斑的种类多,从异常的产生来讲可以分为两类,一类为偶然工艺原因,此类主要有不规则、不定期的特点,另一类是规则出现,特征性强。本文主要通过实验设计找出黑斑黑点问题展开分析并得出一些结论供大家学习参考。


延伸:

减抛刻蚀工序:去除非扩散面及四周的磷硅玻璃,硅片存在药液残留风险,裸露在环境中,容易受到粉尘污染;退火工序:抗PID,消除表面的晶格缺陷,硅片直接裸露在环境中,容易受到粉尘污染,高温工艺加剧污染程度;背钝化工序:通过在电池片背面生长AlOx+SiNx复合膜对电池的背表面进行钝化,极大地改善电池片的长波响应,有效降低背表面复合,提高开路电压,增加背表面反射;硅片直接裸露在环境,容易受到粉尘污染,钝化膜不均匀导致黑斑产生;正镀膜工序:在硅片表面均匀的镀上一层高效的减反射膜,减少光的反射损失,增强了吸收光的强度,提高电池效率,同时有钝化作,正膜成膜前硅片直接裸露在环境,容易受到粉尘污染。

减抛刻蚀工序:去除非扩散面及四周的磷硅玻璃,硅片存在药液残留风险,裸露在环境中,容易受到粉尘污染;退火工序:抗PID,消除表面的晶格缺陷,硅片直接裸露在环境中,容易受到粉尘污染,高温工艺加剧污染程度;背钝化工序:通过在电池片背面生长AlOx+SiNx复合膜对电池的背表面进行钝化,极大地改善电池片的长波响应,有效降低背表面复合,提高开路电压,增加背表面反射;硅片直接裸露在环境,容易受到粉尘污染,钝化膜不均匀导致黑斑产生;正镀膜工序:在硅片表面均匀的镀上一层高效的减反射膜,减少光的反射损失,增强了吸收光的强度,提高电池效率,同时有钝化作,正膜成膜前硅片直接裸露在环境,容易受到粉尘污染。

解决思路:

原因1解决思路:控制5.0μm级粉尘,减少0.5μm级悬浮颗粒,可有效减少车间黑斑发生率;镀膜工序的车间洁净度控制在千级范围内,黑斑发生率能控制在2%以下。

原因2解决思路:优化氧化铝沉积温度、压力、流量等参数;提升氧化铝钝化的均匀性;增强湿法清洗效果,减少1药液残留。 
 
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