诺发系统启用SOLA xT超紫外线热力学制程系统应用于45奈米以下技术的量产

诺发系统今天宣布导入次世代超紫外线热力学制程系统SOLA xT，将其应用在先进的45奈米以下的逻辑元件生产，其利用超紫外线的照射来改善前一道制程镀上的薄膜特性，这一新系统可监控紫外线强度及提供客制化的波长光线组合，因此可将系统延用到多世代。第一套SOLA xT 系统将运送到新加坡的联华电子晶圆工厂Fab 12i。

多平台续列式制程（MSSP）结构的SOLA可以独立控制每一单一平台的温度、波长和强度，以提供最佳的产品一致性和效率。这种高度可配置的紫外线处理制程比单波长，单温固化制程可让超低介电质薄膜提高额外百分之二十五的硬度。例如，UVTP用来除去致孔剂，以及提高金属间层的ULK介质膜机械强度，以利于积体元件整合及后续薄膜处理之包装和化学机械研磨（CMP步骤）。对于另一种使用spin-on介电薄膜的整合制程会在蚀刻，湿式清洗，光阻灰化过程中受损。在这种情况下，UVTP可通过化学键重建修复这种损伤。在前端制程，UVTP还可用来对N型金属氧化物半导体闸道作应变力诱导晶体通道的设备。应变力诱导首先是沉积高拉伸应力的介电薄膜，并随后将其暴露在紫外线更加大其应变力，进而导致增加了元件的性能。

对于上述的所有应用，监控设备的性能健康度和晶圆的性能的一致性，对提高量产生产效率而言是必需的。为了实现这一目标，新的SOLA xT平台配置紫外线监测功能和先进的演驿法，以维持对晶圆上元件的性能均匀度和稳定性。客制化的SOLA xT的光学组件对每个四个单一连续性平台做紫外线导向的最佳化，可达到晶片内部的最佳一致性成果。在连续式多平台系统架构下，可确保每个晶圆通过相同的通道统计出单一性能分布，相对于竞争对手平台具有多达4个或6个不同晶圆的路径，因此统计出晶圆有着许多不同的性能分布。

诺发系统PECVD产品业务部高级副总裁凯文詹宁斯说：「新SOLA xT是为了满足市场所需成熟的UVTP系统，以适合大批量产的32奈米元件， 可独立控制温度、紫外线波长及紫外线强度，使SOLA xT能扩展到下一代有可能推出新材料技术」。

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关于诺发系统SOLAR超紫外线热处理系统
诺发公司SOLAR超紫外线热处理系统（UVTP）是用于沉积低介电常数薄膜后的处理以提高机械和电气性能。它也被用于前段制程，以提高氮化矽薄膜高强度应力来改善NMOS元件的性能。连续式多平台处理架构的SOLA平台同时能提供系卓越的晶圆上均匀性, 晶圆到晶圆均匀性和重复性以及量产的高生产力。